Ideális maratási folyamat jellemzői

Az ideális maratási folyamatnak a következő kulcsjellemzőkkel kell rendelkeznie, hogy megfeleljen a félvezető gyártás és más mikro-nano-feldolgozó területek nagy pontosságú követelményeinek:

① Anizotropikus maratás, ami csak függőleges maratást jelent oldalirányú fúrás nélkül . Csak így biztosíthatjuk, hogy a geometriai alakzatok pontos replikációját megegyeznek a maratott film elleni küzdelemben;
② A jó maratási szelektivitás azt jelenti, hogy a maszkként használt ellenállási sebesség, valamint az alapjául szolgáló vékony film vagy anyag sokkal alacsonyabb, mint a maratott vékonyrétegé, hogy biztosítsák az ellenállási maszkolás hatékonyságát a maratási folyamat során, és megakadályozzák a vékony film alatti más anyagok károsodását a maratás miatt;
③ Nagy feldolgozási tételek, könnyű ellenőrzés, olcsó, minimális környezetszennyezés, ipari termeléshez alkalmas .